在半導體封裝領域,玻璃通孔(TGV)技術因具備高絕緣性、低熱膨脹系數等特性,成為先進封裝技術的重要發展方向。玻璃材料的精密加工,尤其是微孔制備技術,是制約TGV技術規模化應用的關鍵環節。本文將系統介紹傳統加工方法的局限性,重點分析當前主流的激光加工技術,對比激光打孔與激光誘導刻蝕的技術特點,為TGV玻璃加工工藝選擇提供參考。

一、傳統玻璃打孔方法的局限性
在激光加工技術普及前,玻璃打孔主要依賴以下五種工藝,各工藝在精度、效率和適用性方面均存在顯著不足:
1.噴砂加工:通過高速噴射磨料顆粒撞擊玻璃表面形成孔洞。該方法成本較低,但加工精度較差(孔徑通常大于500微米),孔壁粗糙且易產生微裂紋,難以滿足微米級精密加工需求。
2.機械鉆孔:采用微型金剛石鉆頭機械旋轉打孔,可實現約120微米的孔徑,但存在鉆頭磨損快、加工效率低的問題,且玻璃易碎性易導致孔邊緣崩裂。
3.干法刻蝕:利用等離子體或離子束的定向刻蝕作用形成孔洞,孔壁垂直度高,但設備復雜、成本高昂,適合實驗室級精密加工,難以應用于大規模生產。
4.濕法腐蝕:基于氫氟酸(HF)的化學腐蝕原理,雖能均勻刻蝕玻璃,但腐蝕方向難以控制(各向同性腐蝕),孔形精度低,且存在化學污染問題。
5.聚焦放電:通過高壓放電產生局部高溫擊穿玻璃,加工速度較快但精度極低(孔徑大于220微米),僅適用于大孔徑的粗略加工。
綜上,傳統方法普遍存在“精度不足、材料損傷大、生產效率低”的缺陷,無法滿足TGV技術對微米級孔徑、高垂直度(高深寬比)和低應力結構的嚴格要求。
二、激光打孔技術的優勢與應用
激光技術的引入為玻璃精密加工帶來革命性突破,其核心優勢體現在:
高精度與靈活性:激光束聚焦后可實現小于10微米的微孔加工,孔位誤差控制在微米級。通過調節激光功率、脈沖頻率等參數,可精確控制孔深與孔徑比例,適應不同封裝結構的需求。
非接觸式自動化生產:無需傳統鉆頭或掩膜,通過計算機程序控制激光路徑,可實現高密度孔陣列的批量加工,尤其適用于大尺寸玻璃面板的規模化生產,顯著提升加工效率。
材料適應性強:無論普通玻璃還是高硬度微晶玻璃,激光均可通過能量匹配實現高效打孔,突破了傳統機械加工對材料硬度的限制。
三、激光燒蝕與激光誘導刻蝕的技術對比
在激光加工領域,激光燒蝕與激光誘導刻蝕是當前TGV玻璃加工的兩種主流技術,其原理、工藝及性能差異如下:
(一)核心原理與工藝差異
激光燒蝕:利用高能激光(如CO?激光、紫外激光)直接氣化或熔化玻璃材料,單步完成打孔。該工藝依賴激光的熱效應,加工過程中易產生高溫,導致玻璃局部熔化或氣化。
激光誘導刻蝕:采用飛秒激光(脈沖寬度小于10?1?秒)在玻璃內部誘導納米級結構改性,形成可腐蝕的損傷區域,再通過濕法腐蝕去除改性材料,分兩步完成打孔。該工藝利用飛秒激光的“冷加工”特性,幾乎無熱效應影響。
(二)性能對比
| 項目 | 激光燒蝕 | 激光誘導刻蝕 |
|---|---|---|
| 熱影響 | 熱效應顯著,易產生裂紋 | 無熱影響區,玻璃結構完整 |
| 孔壁質量 | 孔口易塌邊,垂直度較差 | 孔壁光滑垂直,可加工高深寬比 |
| 加工精度 | 孔形簡單,精度約微米級 | 可實現納米級結構控制 |
| 適用場景 | 普通互連孔、大尺寸面板加工 | 高密度垂直孔、異形孔陣列 |
(三)應用場景分析
激光燒蝕:適用于對加工速度要求高、孔形簡單的場景(如常規TGV互連孔),但在超薄玻璃或精密結構中可能因熱損傷導致可靠性風險。
激光誘導刻蝕:憑借無熱損傷和高結構可控性,適用于高端TGV封裝需求,如先進扇出封裝(FanOut)或系統級封裝(SiP)中的玻璃中介層加工,可實現高深寬比(>10:1)和異形孔陣列。
四、技術發展趨勢:激光誘導刻蝕的突破方向
隨著半導體封裝向小型化、高集成化發展,TGV玻璃加工對精度與可靠性的要求日益提升。飛秒激光誘導刻蝕技術因其“冷加工”特性和納米級控制能力,成為未來技術發展的重點。通過優化激光參數(如脈沖能量、掃描速度)與腐蝕工藝的協同匹配,該技術有望進一步提升加工效率并降低設備成本,推動TGV技術在5G通信、物聯網等領域的大規模應用。
在TGV玻璃加工領域,激光打孔技術憑借高效性成為當前規模化生產的主要力量,而激光誘導刻蝕則以精密性和低損傷特性引領高端應用方向。兩者并非相互替代,而是形成技術互補——前者滿足主流封裝的效率需求,后者突破先進工藝的精度瓶頸。隨著激光技術的持續創新,玻璃材料在半導體封裝中的應用潛力將進一步釋放,為芯片集成技術的發展提供新路徑。
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